به گزارش ایسنا، به نقل از ستاد نانو، لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) یک نوع ویژه‌ای از روش‌ لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار است که در آن به کمک پلاسما همه واکنش‌های CVD تحت تاثیر قرار می‌گیرد و قادر می‌سازد که واکنش‌ها را به‌صورت موثرتری در دماهای پایین‌ انجام دهد.

استفاده از پلاسما دمای انجام واکنش‌های CVD را تا مقادیر بین ۲۰۰ تا ۴۰۰ درجه سانتی‌گراد کاهش می‌دهد، در حالی‌که دمای کاری روش‌های پیشین CVD، در حدود رنج دمایی ۴۲۵ تا ۹۰۰ درجه سانتیگراد است و ‌استفاده از پلاسما دامنه گسترش روش‌های CVD را به قدری گسترش می‌دهد که پوشش‌دهی بیشتر مواد هادی و غیرهادی بوسیله آن امکان‌پذیر می‌شود.

لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار یکی از مهمترین روش‌های پوشش‌دهی است که کاربرد امروزه آن هم حوزه‌های صنعتی و هم حوزه‌های تحقیقاتی را در بر گرفته است. در این میان، روش PECVD بیشتر برای تولید نانولوله‌های کربنی (CNTs)، نانوالیاف کربنی (CNFs) و ساخت لایه‌های نازک متشکل از مواد غیرآلی استفاده می‌شود.

این دستگاه لایه‌نشانی مواد مختلف برای ریزساخت‌ها (microfabrication) در فرم‌هایی نظیر تک‌بلورها، چندبلورها، آمورف و ساختارهای با رشد هم‌بافته (epitaxial) را تولید می‌کند، همچنین در صنایع میکروالکترونیک برای کاربردهای نیازمند به دقت ابعادی بالا و پوشش‌های مقاوم به سایش و خوردگی بر روی ابزارآلات، یاطاقان‌ها و مته‌ها قابل استفاده است.

این دستگاه قادر به اعمال پوشش‌های مختلفی از جمله TiN, TiC, TiCN روی زمینه‌هایی نظیر فولاد است. سختی بالای ۲۰۰۰ ویکرز، چسبندگی و استحکام فوق العاده بالا، ضریب اصطکاک کم و مقاوت به سایش بالا و پایداری پوشش تا دماهای ۴۰۰ الی ۷۰۰ در جه سانتیگراد از جمله مزیت‌های پوشش ایجاد شده با این دستگاه است. این دستگاه برای تولید نانولوله‌های کربنی (CNTs)، نانوالیاف کربنی (CNFs) و همچنین انواع پوشش‌های نانوساختار مناسب است.

انتهای پیام