• شنبه / ۲ دی ۱۴۰۲ / ۱۰:۴۲
  • دسته‌بندی: دانش‌بنیان‌ها
  • کد خبر: 1402100200486
  • خبرنگار : 30057

با انتشار فراخوانی محقق می‌شود

دستیابی به دانش فنی تولید پوشش مقاوم خطوط لوله مدفون در خاک در دستور کار فناوران

دستیابی به دانش فنی تولید پوشش مقاوم خطوط لوله مدفون در خاک در دستور کار فناوران

دستیابی به دانش فنی تولید پوشش خطوط لوله مدفون در خاک بر پایه رزین اپوکسی و پلی‌یورتان عنوان فراخوان جدید بنیاد علم ایران است و متقاضیان تا ۳۰ دی ماه فرصت دارند ایده‌های خود را ارسال کنند.

به گزارش ایسنا، بنیاد ملی علم ایران در راستای مأموریت‌گراشدن پژوهش‌ها و حمایت از طرح‌های پژوهشی که به فناوری روز دنیا می‌پردازد و می‌تواند باری از دوش صنعتگران کشور بردارد، فراخوان‌هایی را با عنوان برنامه حمایت از پژوهش عمیق شرکت‌های دانش‌بنیان منتشر می‌کند. «دستیابی به دانش فنی تولید پوشش خطوط لوله مدفون در خاک بر پایه رزین اپوکسی و پلی‌یورتان» به عنوان یکی دیگر از فراخوان‌های این برنامه، منتشر می‌شود و متقاضیان تا ۳۰دی‌ماه برای ثبت نام مهلت دارند.

در این برنامه، نیازهای پژوهشی پرریسک شرکت‌های دانش‌بنیان، از طریق سامانه کایپر بنیاد ملی علم ایران به این نهاد اعلام می‌شود و پس از بررسی و داوری‌های لازم، فراخوان پژوهش‌های عمیق و پرریسک شرکت‌های دانش‌بنیان به پژوهشگران و محققان اعلام می‌شود.

پوشش‌های محافظ بر پایه پلیمرها برای نگهداری و حفاظت سازه‌های فلزی در برابر خوردگی محیط‌های خورنده مورد استفاده قرار می‌گیرد. این پوشش‌های کامپوزیتی متشکل از پیگمنت‌ها، فیلرها، رزین‌های پلیمری آلی و معدنی، حلال‌های آلی و همچنین افزودنی‌های خاص هستند. حسب استفاده و کاربرد هر نوع از این پوشش‌ها، مواد تشکیل‌دهنده و ترکیب درصد آنها متفاوت خواهد بود. همچنین اهداف مورد نیاز برای هر پوشش آلی نیز مختلف است. 

پوشش‌های موردنظر در این پیشنهاد علمی، باید بتوانند ضمن برخورداری از خصوصیات مختلف فیزیکی، مکانیکی و الکتروشیمیایی، از یک تک‌لایه تشکیل شوند. این تک‌لایه‌ها نسبتا ضخیم هستند و مستلزم تأیید تمام خصوصیات مندرج در استانداردهای مربوط است.

این پوشش‌ها براساس استانداردهای BS EN ۱۰۲۹۰ و نیز IGS-M-TP-۰۲۰ تعریف می‌شوند و باید بتوانند آزمون‌های این استاندارد را مورد تأیید خود قرار دهند. تک‌لایه دیگر نیز باید بتواند استاندارد BS EN ۱۰۲۸۹ و نیز IGS-M-TP-۰۲۷ و الزامات فنی آن را با توجه به آزمون‌های تعریف شده با موفقیت به انجام برساند.

چالش اصلی این پروژه علاوه بر رعایت تمامی آزمون‌های مندرج در استاندارد EN ۱۰۲۹۰ & IGS-M-TP-۰۲۰، روش اجرای متفاوت این محصول با توجه به زمان ژل‌شدن بسیار کوتاه آن است. 

در مورد پوشش اپوکسی، چالش اصلی این پروژه علاوه بر پاس کردن تمامی‌ آزمون‌های مندرج در استاندارد EN۱۰۲۸۹& IGS-M-TP-۰۲۷ داشتن حداقل زمان ژل شدن به جهت جلوگیری از نفوذ گرد و خاک و حشرات بر روی فیلم رنگ است که باعث ایجاد Holiday می‌شوند.

مالکیت معنوی: بر اساس مفاد قرارداد بین متقاضی و مجری و مالکیت منافع مادی نیز بر اساس مفاد قرارداد فی مابین متقاضی و مجری خواهد بود.

این فراخوان در قالب یک رویداد رقابتی است و از بین پروپوزال‌های دریافتی، موردی که شرایط زیر را داشته باشد، در اولویت خواهد بود:

* ترکیب متخصصین تیم پیشنهادی مرتبط باشد،
* افراد پیشنهاد شده، دارای سابقه پژوهشی و فنی در آن موضوع باشند،
* زمان‌بندی، هزینه و شرح خدمات، متناسب و مرتبط با پژوهش مورد تقاضا باشد،
* تیم پیشنهاد دهنده، زیرساخت انجام پژوهش اعم از آزمایشگاه و کارگاه را داشته باشند.

از پروپوزال‌هایی که در قالب رساله دکتری و طرح پسادکتری تعریف شوند، حمایت فوق‌العاده می‌شود. پس از دریافت پروپوزال از طریق سامانه کایپر، ارزیابی انجام گرفته و در صورت کسب امتیاز بالا، تیم برگزیده جهت مذاکره با بنیاد و شرکت متقاضی دعوت خواهد شد.

به نقل از ستاد نانو،  کلیه افراد واجد شرایط تا ۳۰ دی فرصت دارند که پروپوزال خود را از طریق سامانه کایپر و یا بخش پژوهشگر و متقاضی فراخوان پژوهش عمیق شرکت‌های دانش‌بنیان برای بنیاد ملی علم ایران ارسال کنند.‌

پژوهش پیشنهاد شده تا سقف ۸۰ درصد، حداکثر ۲ میلیارد تومان، توسط بنیاد ملی علم ایران حمایت خواهد شد. بدیهی است که مابقی هزینه‌ها باید توسط شرکت متقاضی پژوهش تأمین شود.

انتهای پیام

  • در زمینه انتشار نظرات مخاطبان رعایت چند مورد ضروری است:
  • -لطفا نظرات خود را با حروف فارسی تایپ کنید.
  • -«ایسنا» مجاز به ویرایش ادبی نظرات مخاطبان است.
  • - ایسنا از انتشار نظراتی که حاوی مطالب کذب، توهین یا بی‌احترامی به اشخاص، قومیت‌ها، عقاید دیگران، موارد مغایر با قوانین کشور و آموزه‌های دین مبین اسلام باشد معذور است.
  • - نظرات پس از تأیید مدیر بخش مربوطه منتشر می‌شود.

نظرات

شما در حال پاسخ به نظر «» هستید.
لطفا عدد مقابل را در جعبه متن وارد کنید
captcha