به گزارش ایسنا، در پژوهش دکتر مرضیه عباسی فیروزجاه، عضو هیئت علمی دانشگاه فناوری‌های نوین سبزوار با همکاری دکتر بابک شکری، عضو هیئت علمی دانشگاه شهید بهشتی، لایه‌های اپتیکی نانومتری و فوق شفاف F:SiOx به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده و ویژگی‌های نانو سختی و نانو خراش آنها مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.

در راستای این پژوهش بررسی مقاومت لایه‌ها در برابر شرایط محیطی سخت در شرکت الکترواپتیکولیزر اصفهان صورت گرفت و کیفیت نمونه‌ها در آزمون مربوطه مورد تأیید قرار گرفت. محصول این پژوهش کاربردهای فراوانی در صنعت اپتیک، اپتوالکتریک و نانو الکتریک دارد.

بنا بر اعلام روابط عمومی وزارت علوم، این مقاله با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی Journal of Non-Crystalline Solids به چاپ رسیده است.

انتهای پیام