• دوشنبه / ۸ مرداد ۱۴۰۳ / ۱۱:۳۳
  • دسته‌بندی: سمنان
  • کد خبر: 1403050804763
  • منبع : نمایندگی سمنان

معاون فناوری پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان خبر داد

ثبت اختراع "افزایش فعالیت سطحی و قدرت یونی بنتونیت برای ماده رئولوژیک رنگ"

ثبت اختراع "افزایش فعالیت سطحی و قدرت یونی بنتونیت برای ماده رئولوژیک رنگ"
عکس تزئینی ست

ایسنا/سمنان معاون فناوری پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان از ثبت یک اختراع جدید در این مجموعه علمی پژوهشی خبر داد و گفت: شرکت دانش بنیان نانو ترکیب سمن دارا از شرکت‌های مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان، موفق به ثبت اختراع "افزایش فعالیت سطحی و قدرت یونی بنتونیت برای ماده رئولوژیک رنگ" شد.

دکتر امین جانقربانی با اعلام این خبر اظهار کرد: شرکت نانو ترکیب سمن دارا به مدیرعاملی آقای حامد محمودی از سال ۱۳۹۹ در پارک دانشگاه سمنان مستقر شد و فعالیت خود را در زمینه "تولید نانو ذرات بر پایه سیلیس" آغاز نمود و تاکنون موفقیت‌های بسیاری را کسب نموده است که ازجمله آن‌ها می‌توان به اخذ گواهی دانش بنیان معاونت علمی و فناوری ریاست‌ جمهوری، کارگر نمونه و گروه کار نمونه استانی اشاره نمود.

به گزارش ایسنا به نقل از روابط عمومی دانشگاه سمنان معاون فناوری پارک علم و فناوری دانشگاه سمنان تصریح کرد: ارزش اختراعات ثبت‌شده به تجاری سازی آن‌ها است و این شرکت در حال اخذ مجوز دانش بنیان و به‌دنبال آن در پی تجاری سازی آن است.

دکتر مریم دارایی از تیم مخترعین این محصول نیز درخصوص اختراع ثبت شده اظهار کرد: ثبت اختراع "افزایش فعالیت سطحی و قدرت یونی بنتونیک و برای ماده رئولوژیک رنگ"، حاصل تلاش تیم کاری این شرکت، شامل: احمد اسلامیان، حامد محمودی، سیدعلی حسینی خراسانی، خانم آدینه اسلامیان و مریم دارایی است.

وی گفت: محصول ثبت اختراع شده، در مقیاس آزمایشگاهی و پایلوت تولید شده و در مقایسه با نمونه‌های چینی و هندی دارای قیمت مناسب‌تری می‌باشد.

وی ادامه داد:همچنین این محصول از نظر برخی پارامترها مشابه بنتون المنتیس انگلستان است که به‌دلیل تحریم، سال‌هاست وارد کشور نمی‌شود و امیدواریم با راه اندازی خط تولید صنعتی بتوانیم قدمی بزرگ در جهت جلوگیری از واردات بنتون برداریم.

دارایی با بیان اینکه مهم‌ترین کاربرد این محصول، در صنعت رنگ، نفت، روغن و گریس است افزود: این محصول دارای نام تجاری رئوبن است و موضوع دانش بنیانی آن نیز توسط معاونت علمی و فناوری در حال بررسی است.

انتهای پیام

  • در زمینه انتشار نظرات مخاطبان رعایت چند مورد ضروری است:
  • -لطفا نظرات خود را با حروف فارسی تایپ کنید.
  • -«ایسنا» مجاز به ویرایش ادبی نظرات مخاطبان است.
  • - ایسنا از انتشار نظراتی که حاوی مطالب کذب، توهین یا بی‌احترامی به اشخاص، قومیت‌ها، عقاید دیگران، موارد مغایر با قوانین کشور و آموزه‌های دین مبین اسلام باشد معذور است.
  • - نظرات پس از تأیید مدیر بخش مربوطه منتشر می‌شود.

نظرات

شما در حال پاسخ به نظر «» هستید.
لطفا عدد مقابل را در جعبه متن وارد کنید
captcha