با همكاري محققان دانشگاه كمبريج لايه نازک نانوساختار NiTi به همت پژوهشگران ايراني تهيه شد

دانش‌آموخته دکتري دانشگاه صنعتي شريف با همکاري محققان دانشگاه کمبريج موفق به ايجاد لايه‌هاي نازک نانوساختار NiTi از عناصر خالص به روش کندو پاش (Sputtering) شد.

به گزارش سرويس پايان‌نامه خبرگزاري دانشجويان ايران(ايسنا)، اين آلياژ به صورت لايه نازک در ساخت ميکرووالوها، ميکروپمپ‌ها، MEMS،BioMEMS، ميکرولوله‌هاي هوشمند، نانوربات‌ها، نانوچنگ‌ها و ... کاربرد دارد و نيز مي‌توان از آن در صنايع هواپيمايي، مهندسي پزشکي، مهندسي بافت، جراحي قلب آنژيوگرافي و ارتودنسي استفاده كرد.

دکتر سهراب سنجابي - دانش‌آموخته دکتري مهندسي مواد دانشگاه صنعتي شريف - كه در قالب تحصيلات رساله‌اش با راهنمايي دکتر خطيب‌الاسلام صدرنژاد - عضو هيئت علمي دانشکده مواد دانشگاه صنعتي شريف - و با همکاري دکتر Z. H. Barber از دانشگاه کمبريج موفق به تهيه اين نانولايه شده‌اند، اظهار داشت: هدف اصلي از اين پژوهش، توليد آلياژهاي حافظه‌دار نانوساختار از عناصر خالص بوده و لايه نازک نانوساختار اين آلياژهاي حافظه‌دار بر پايه NiTi به کمک روش کندوپاش و تحت شرايط خلاء UHV توليد شده است. روش مورد استفاده در اين پروژه در مقايسه با روش‌هاي ديگر بسيار مقرون به صرفه بوده و مي‌توان با کنترل پارامترهاي دستگاه کند و پاش هرگونه ترکيبي از آلياژهاي NiTi را به صورت دوتايي و سه تايي توليد كرد و خواص حافظه‌داري آلياژها را در دماهاي پايين، دماي اتاق و دماي بالا تا 400C به دست آورد.

عضو هيات علمي گروه نانوفن‌آوري دانشگاه تربيت مدرس درباره نحوه انجام کار گفت: در اين پژوهش از عناصر خالص Ni و Ti براي رشد لايه نازک NiTi با ترکيبات مختلف و عناصر ديگر چون Hf براي رشد لايه نازک قابل استفاده در دماي بالا (NiTiHf) استفاده شده است. با کنترل فشار گاز آرگون، دماي رشد و نسبت توان اعمالي به تارگت‌ها در دستگاه کندو پاش، مي‌توان هرگونه آلياژ حافظه‌داري با ترکيب خاص و به صورت لايه نازک توليد كرد. مشخصه‌يابي لايه‌ها توسط دستگاه‌هاي XRD، FESEM، TEM، DSC، Electerical Resistivity و AFM انجام گرفته است.

وي تاكيد كرد: محصول توليد شده در اين پروژه کاملاً قابل مقايسه با محصولات خارجي است، با اين تفاوت که کنترل ترکيب شيميايي از مزاياي اين پروژه است.

به گزارش ستاد ويژه توسعه فن‌آوري نانو، جزئيات اين کار تحقيقاتي در مجله A Vacuum Science and Technology(جلد 23، شماره 5، صفحات 1425-1429، سال 2005) منتشر شده است.

انتهاي پيام

  • سه‌شنبه/ ۲۱ آبان ۱۳۸۷ / ۱۲:۱۵
  • دسته‌بندی: پژوهش
  • کد خبر: 8708-12835
  • خبرنگار :